producten
Huis / Producten / Fotovoltaïsche laserapparatuur /

Perovskiet P1 P4 Laserscherpmachine en randreinigingsmachine Modulair Flexibel ontwerp

Perovskiet P1 P4 Laserscherpmachine en randreinigingsmachine Modulair Flexibel ontwerp

Merknaam: UW
MOQ: 1SET
Prijs: Bespreekbaar
Betalingsvoorwaarden: T/T
Detailinformatie
Certificering:
CE ISO
Laser:
IR/Groen/UV nanoseconde- en picosecondelasers
Stroom:
20-1000 W optioneel
Toepasselijke celgrootte:
600 mm×600 mm (aanpasbaar)
Spot-profiel:
Vierkant of rond plekje
Lijnbreedte:
20-100 μm instelbaar
Machineafmetingen L*B*H:
1900*1500*2500mm
Verpakking Details:
Kartonnen doos/Houten kist
Markeren:

Laserscherpmachine en kantreinigingsmachine

,

Perovskiet P1 laserschrijfmachine

Productomschrijving

Introductie apparatuur

Deze Perovskiet P1/P4 laser scribeer- en randreinigingsmachine kan P1 laser scribeer uitvoeren: het verwijderen van de TCO-laag, waarbij de weerstand aan beide zijden van de P1 scribeerlijn hoger is dan 20 MΩ, er geen TCO-residu in het scribeerkanaal zit en het glasubstraat niet beschadigd raakt. Ondertussen kan het ook P4 laser randreiniging uitvoeren: het gebruiken van lasertechnologie om de afgezet film aan de rand van de cel te verwijderen, het reserveren van het gebied voor latere verpakking, en het verwijderen van alle film lagen boven het substraat zonder het substraat te beschadigen.

 

Hoogtepunten

・Adopteert zelfontwikkelde laser- en optisch ontwerp, ondersteunt straalvorming. Spotgrootte is instelbaar van 20-100μm, en 500μm of 1000μm spots kunnen worden aangepast.

・Ondersteunt snelle scribeer met focuslens of gecombineerde etsing met galvanometer.

・De hele machine heeft een modulair en flexibel ontwerp. P1/P4 functies kunnen op één apparaat worden geïntegreerd met eenvoudige bediening.

・Uitgerust met een zeer nauwkeurig visueel positioneringssysteem, stiknauwkeurigheid < 3μm.

・Zelfontwikkeld stofafzuigsysteem, luchtblaassysteem en focusvolgsysteem.

 

Technische parameters

Prestaties van apparatuur Specificaties
Laser IR/Groene/UV nanoseconde en picoseconde lasers
Vermogen 20-1000 W optioneel
Gefocusseerde spotgrootte 20-100μm (500μm of 1000μm aanpasbaar)
Toepasselijke celgrootte 600 mm×600 mm (Aanpasbaar)
Rechtheid <5μm/m
Positioneringsnauwkeurigheid ±5μm
Herhalingsnauwkeurigheid positionering ±2μm
Spotprofiel Vierkante of ronde spot
Lijnbreedte 20-100 μm instelbaar
Afmetingen machine L*B*H 1900*1500*2500mm