装置紹介
このペロブスカイトP1/P4レーザーソーイング・エッジクリーニング装置は、P1レーザーソーイング(TCO層の除去)を実行でき、P1ソーイングラインの両側の抵抗は20MΩを超え、ソーイングチャネル内にTCO残留物がなく、ガラス基板に損傷を与えません。同時に、P4レーザーエッジクリーニング(レーザー技術を使用してセルエッジの成膜を除去し、後続のパッケージング用の領域を確保し、基板を損傷せずに基板上のすべての成膜層を除去する)も実行できます。
ハイライト
・自社開発のレーザーおよび光学設計を採用し、ビーム成形をサポートします。スポットサイズは20〜100μmで調整可能で、500μmまたは1000μmのスポットはカスタマイズ可能です。
・フォーカシングレンズによる高速ソーイングまたはガルバノメーターによるエッチングとの組み合わせをサポートします。
・装置全体がモジュール式で柔軟な設計を採用しています。P1/P4機能は、簡単な操作で1台の装置に統合できます。
・高精度ビジョン位置決めシステムを搭載し、スティッチング精度は3μm未満です。・自社開発の集塵システム、エアブローシステム、フォーカストラッキングシステム。
技術パラメータ
装置性能
| 仕様 | レーザー |
| IR/グリーン/UVナノ秒およびピコ秒レーザー | パワー |
| 20〜1000W(オプション) | 集光スポットサイズ |
| 20〜100μm(500μmまたは1000μmはカスタマイズ可能) | 適用セルサイズ |
| 600mm×600mm(カスタマイズ可能) | 直線度 |
| 5μm/m未満 | 位置決め精度 |
| ±5μm | 繰り返し位置決め精度 |
| ±2μm | スポットプロファイル |
| 正方形または円形スポット | 線幅 |
| 20〜100μm(調整可能) | 装置寸法(長さ×幅×高さ) |
| 1900*1500*2500mm |