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| 브랜드 이름: | UW |
| MOQ: | 1세트 |
| 가격: | 협상 가능 |
| 지불 조건: | 티/티 |
장비 개요
본 장비는 고에너지 레이저로 셀 표면을 조사하여 캐리어를 여기시키고 국부적으로 고밀도 전류를 생성합니다. 이를 통해 금속 그리드 라인과 실리콘 기판 간의 상호 확산을 유발하여 우수한 옴 접촉을 형성하고 접촉 저항을 효과적으로 줄입니다. 동시에 패시베이션 층의 광범위한 손상을 방지하여 개방 회로 전압과 단락 회로 전류를 개선하고 태양 전지의 변환 효율을 크게 향상시킵니다.
주요 특징
• 자체 개발 UW 레이저 및 특수 광학 장치; 조정 가능한 스팟 크기 및 에너지 분포.
• 고속 갈보 + 고속 DD 모터; 사이클 시간 ≤ 0.75초, 스크린 인쇄 라인 속도 요구 사항 충족.
• 유연한 선형 로딩/언로딩 모듈; 빠르고 파손율 낮음.
• 오프라인/온라인 모드 지원; 오프라인 로딩 및 온라인 비상 언로딩이 독립적으로 작동; 대용량 및 사용 용이.
• 맞춤형 수입 프로브 어레이 및 고전도성 스테이지; 긴 수명, 고성능, 낮은 파손율.
• 0BB 호환; 최적화된 영역 스캔 공정으로 라인 스캔 대비 효율 0.05% 향상.
기술 매개변수
| 장비 성능 | 사양 |
| 작동 모드 | 온라인 및 오프라인 생산 모드 모두 지원 |
| 적용 셀 크기 | 셀 ≤ 230×230 mm 호환 (하프 셀 맞춤 제작 가능) |
| 적용 셀 두께 | 150±50μm |
| 로딩/언로딩 방법 |
온라인: 스크린 인쇄 소결로 벨트 연결; 오프라인: 카세트 로딩/언로딩 |
| 처리 정확도 | ±15μm |
| 패턴 반복성 | ≤ ±10μm |
| 공정 효율 향상 | ＞ 0.3% (업계 선도 수준 이하 아님) |
| 장비 용량 |
182×182 mm: ≥ 9,500 개/시간 (듀얼 채널, 핑거 ≤ 220); 210×210 mm: ≥ 9,000 개/시간 (듀얼 채널) |
| 파손율 | ≤ 0.015% @182*182mm,≤ 0.02% @210*210mm |
| 장비 치수 (L×W×H) | 3616*1190*2250mm |
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