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Disegno modulare Perovskite P2 P3 Laser Scribing Machine Alta precisione di posizione

Disegno modulare Perovskite P2 P3 Laser Scribing Machine Alta precisione di posizione

Marchio: UW
MOQ: 1SET
Prezzo: Negoziabile
Condizioni di pagamento: T/T
Informazione dettagliata
Certificazione:
CE ISO
Laser:
Laser a picosecondi IR/verde/UV
Energia:
5–60 W, opzionale
Dimensioni cella applicabili:
600×600mm (Personalizzabile)
Larghezza della linea:
20–100μm, regolabile
Dimensioni dell'attrezzatura (L×L×A):
2500*2000*2500 mm
Forma del punto:
Punto quadrato o circolare
Imballaggi particolari:
Scatola di cartone/scatola di legno
Evidenziare:

Perovskite P3 Laser Scribing Machine

,

Perovskite P2 Laser Scribing Machine

Descrizione di prodotto

Introduzione all'attrezzatura

Questa macchina adotta un laser a picosecondi per processare strati di perovskite, strati assorbitori di luce o strati di elettrodi metallici. Azionata da un laser ad alta potenza a impulsi brevi, garantisce l'assenza di crateri ai bordi durante la marcatura sulla superficie del materiale, fornendo risultati di lavorazione controllabili e stabili. Può posizionare e rimuovere con precisione gli strati di film target a una profondità precisa senza danneggiare il substrato TCO, e le scanalature marcate presentano un'eccellente planarità e consistenza sul fondo.

Punti salienti

  • Laser e design ottico sviluppati internamente; larghezza della linea di marcatura regolabile da 20-100 µm, cratere P2 <50 nm, cratere P3 <100 nm.Design generale modulare e flessibile; P2/P3 integrati in un'unica macchina per un facile utilizzo.Tracciamento visivo ad alta precisione e trasmissione meccanica flessibile ad alta velocità, zona morta <100 µm ottenibile.
  • Sistemi di estrazione polvere, soffiatura aria, posizionamento visivo e tracciamento fuoco sviluppati indipendentemente.
  • Sistema a doppio percorso ottico sviluppato internamente per l'elaborazione a stazione singola, che consente la marcatura P2/P3.Sistema di purificazione del gas opzionale: realizza la purificazione ciclica del gas per rimuovere acqua, ossigeno e gas organici, raggiungendo livelli di H₂O e O₂ inferiori a 1 PPM.
  • Camera sigillata (glove box) opzionale: realizzata in acciaio inossidabile o acrilico, riempita con gas inerte, dotata di porte per guanti e guanti per l'operazione.
  • Struttura meccanica composta da piattaforma in marmo e motore lineare ad alta precisione, che supporta il sistema ottico e gli accessori di processo.
  • Sistema ottico: composto da laser ultraveloce, espansore di fascio, riflettore, DOE, lente di focalizzazione e altri componenti.
  • Parametri tecnici
  • Prestazioni dell'attrezzatura
  • Specifiche

Laser

Laser a picosecondi IR/Verde/UV Potenza
5–60W, opzionale Dimensione cella applicabile
600×600 mm (personalizzabile) Rettilineità
<5 µm/m Precisione di posizionamento
±5 µm Precisione di riposizionamento
±2 µm Zona morta
<100 µm Forma del punto
Punto quadrato o circolare Larghezza della linea
20–100 µm, regolabile Dimensioni dell'attrezzatura (L×L×A)
2500*2000*2500 mm